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中国成功测试首台EUV光刻机原型机 | 技术突破与逆向工程进展

2025年12月，中国科学家在深圳实验室成功建造并测试首台EUV光刻机原型机，实现13.5纳米极紫外光产出。该设备由ASML前工程师团队通过逆向工程完成，标志着中国在高端半导体设备领域取得关键突破。